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表面修饰In(OH)3后ZnO的电化学性能
来源:万方数据网 日期:2009-12-22 作者:全球电池网 点击:

用化学沉淀法在ZnO颗粒表面修饰了In(OH)3层.粉末XRD和TEM测试的结果表明,In(OH)3颗粒的尺寸约为10~30 nm.随着In(OH),负载量的增加,ZnO的放电比容量、利用率和电荷转移电阻逐渐增大,而充放电电压逐渐降低.In(OH)3负载量为12.5%的ZnO与纯ZnO前150次循环的平均放电比容量分别为552 mAh/g和286 mAh/g;ZnO的平均利用率分别为84.2%和44.7%;电荷转移电阻分别为0.82Ω和0.24Ω;平均充放电电压降低24 mV和40 mV.
作 者: 徐松 杨长春 贺素娇 伍伟峰  
作者单位: 郑州大学化学系,河南,郑州,450001 
刊 名: 电池  ISTIC PKU
英文刊名: BATTERY BIMONTHLY 
年,卷(期): 2009 39(4) 
分类号: TM912.2 
关键词: ZnO   In(OH)3   表面修饰   锌镍电池  
机标分类号: TM9 TM2 
机标关键词: 表面修饰ZnO颗粒电化学性能surface modified放电比容量放电电压电荷转移平均利用率负载量充放电化学沉淀法电阻电压降低循环结果粉末测试XRDTEM 
基金项目: 国家自然科学基金项目,郑州市科技攻关项目 
DOI:   参考文献(7条)
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原文链接:http://d.wanfangdata.com.cn/Periodical_dc200904006.aspx

 

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